特許
J-GLOBAL ID：200903084014012057
ノズルプレートの製造方法、ノズルプレート、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置の製造方法及び液滴吐出装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小林 久夫
, 安島 清
, 佐々木 宗治
, 大村 昇
, 高梨 範夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-155032
公開番号（公開出願番号）：特開2007-320254
出願日： 2006年06月02日
公開日（公表日）： 2007年12月13日
要約：
【課題】安定した吐出特性を有するとともに、ノズル密度の高密度化を図ることができる液滴吐出用のノズルプレート製造方法を提供する。【解決手段】円筒状ノズル孔部分11aが形成されたシリコン基板41の少なくとも一方の面と円筒状ノズル孔部分11aの側面及び底面とにエッチング保護膜(SiO2 膜 )44を形成する工程と、エッチング保護膜44のうち、シリコン基板41の一方の面側の円筒状ノズル孔部分11aの周囲部分を、円筒状ノズル孔部分11aの孔径よりも大きく除去して開口44aを形成する工程と、開口44aが形成されたエッチング保護膜44を有するシリコン基板41にドライエッチングを施し、テーパー状ノズル孔部分11bを形成する工程とを有するものである。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
吐出方向の先端側の円筒状ノズル孔部分と、該円筒状ノズル孔部分から吐出方向の後端側に向けてノズル断面積が漸増しているテーパ状ノズル孔部分とから構成されるノズル孔を、シリコン基板をエッチングすることにより形成するノズルプレートの製造方法であって、
前記シリコン基板の一方の面にドライエッチングを施して前記円筒状ノズル孔部分を形成する工程と、
少なくとも前記一方の面と前記円筒状ノズル孔部分の側面及び底面とにエッチング保護膜を形成する工程と、
前記エッチング保護膜のうち、前記円筒状ノズル孔部分の周囲部分を、前記円筒状ノズル孔部分の孔径よりも大きく除去して開口を形成する工程と、
前記開口が形成された前記エッチング保護膜を有する前記シリコン基板にドライエッチングを施し、前記テーパ状ノズル孔部分を形成する工程と、
前記シリコン基板を、前記一方の面とは反対側の面側から前記円筒状ノズル孔部分の先端部が開口するまで薄板化する工程と
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2C057AF33
, 2C057AP13
, 2C057AP32
, 2C057AP56
, 2C057AQ02
