特許
J-GLOBAL ID：200903084022910145
レーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
▲柳▼川 信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-076271
公開番号（公開出願番号）：特開平5-237676
出願日： 1992年02月27日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：
【要約】【目的】 マスクパターン作成の工程を単純化し、マスク作成時間を短縮するとともに、マスク作成の製造コストを低減する。【構成】 レーザ発振器1から出射されたレーザ光は可変スリット5によって加工したい加工パターン形状にビーム整形される。X軸方向スキャンミラー6およびY軸方向スキャンミラー7はレーザ光をX軸方向およびY軸方向に走査し、XYステージ10によってX軸方向およびY軸方向に移動されるガラスマスク9上のクロム膜のパターン作成部分にレーザ光を照射する。【効果】 ガラスマスク上に直接レーザ光を照射して不要なクロム膜を除去することができる。
請求項（抜粋）：
金属膜が蒸着されたガラスマスクを載置する載置台と、前記金属膜を蒸発させるためのレーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光の前記ガラスマスク上への照射形状を可変する可変手段と、前記可変手段で前記照射形状が可変された前記レーザ光を前記ガラスマスク上で走査する走査手段と、前記載置台を前記レーザ光に直交する方向に移動する移動手段と、前記レーザ光によって前記ガラスマスク上にマスクパターンを生成するよう前記可変手段と前記走査手段と前記移動手段とを制御する制御手段とを設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (4件)：
B23K 26/00
, B23K 26/06
, B23K 26/08
, G03F 1/08
