水質制御方法および装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：波多野久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-192351
公開番号（公開出願番号）：特開2001-021682
出願日： 1999年07月06日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】原子炉内への金属注入中にpHを規定の範囲内に収めることにより、原子炉内の構造材料に悪影響を与えない水質制御方法および装置を提供する。【解決手段】原子炉の一次系に金属または金属化合物を注入することにより構造物の腐食抑制を図る工程において、その工程中で一次系水質を既存の原子炉水採取系にて冷却することにより室温のpHを連続して測定し、pHが5.6以下ならばアルカリ溶液を、pHが8.6以上ならば酸溶液を、原子炉の一次系に設置したpH制御用注入装置12より注入することにより、一次系水質のpHを5.6〜8.6に制御する。

請求項（抜粋）：

原子炉の一次系に金属または金属化合物を注入することにより構造物の腐食抑制を図る工程において、前記工程中で一次系水質を既存の原子炉水採取系にて冷却することにより室温のpHを連続して測定し、pHが5.6以下ならばアルカリ溶液を、pHが8.6以上ならば酸溶液を、前記原子炉の一次系に設置したpH制御用注入装置より注入することにより、前記一次系水質のpHを5.6〜8.6に制御することを特徴とする水質制御方法。

IPC (10件)：

G21D 1/00 GDB , C02F 1/42 , C02F 1/66 510 , C02F 1/66 521 , C02F 1/66 , C02F 1/66 522 , C02F 1/66 530 , G21C 19/307 , G21D 3/08 , C23F 15/00

FI (14件)：

G21D 1/00 GDB W , C02F 1/42 B , C02F 1/66 510 H , C02F 1/66 521 B , C02F 1/66 521 E , C02F 1/66 522 A , C02F 1/66 522 B , C02F 1/66 522 F , C02F 1/66 530 G , C02F 1/66 530 L , C02F 1/66 530 Q , G21D 3/08 G , C23F 15/00 , G21C 19/30 L

Fターム (21件)：

4D025AA07 , 4D025AB11 , 4D025AB14 , 4D025AB16 , 4D025AB18 , 4D025AB35 , 4D025BA12 , 4D025BA16 , 4D025BB04 , 4D025BB06 , 4D025CA03 , 4D025CA10 , 4K062AA03 , 4K062AA10 , 4K062BA08 , 4K062BA11 , 4K062BC26 , 4K062CA03 , 4K062DA05 , 4K062FA05 , 4K062FA06

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