特許
J-GLOBAL ID:200903084035940280
触媒活性の非常に高いプラチナ金属層を得る方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
頓宮 孝一 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-060833
公開番号(公開出願番号):特開平6-010146
出願日: 1993年03月22日
公開日(公表日): 1994年01月18日
要約:
【要約】【目的】 より均一で、より高い触媒活性を有するプラチナ金属層を得るための方法を提供する。【構成】 触媒活性の非常に高いプラチナ金属層を、酸性のイオノゲンであって、プラチナ金属イオンを含み、さらにスルフォン酸を含む溶液より得る。この活性化によって、触媒層がより均一になり、表面積が増して触媒としての効率が向上する。本発明の処理は、化学合成、環境関連の応用、表面の金属被覆など、プラチナ金属触媒を用いるいかなる化学的処理においても実施できる。
請求項(抜粋):
触媒活性の非常に高いプラチナ金属層を得る方法において、(a)プラチナ金属イオンを放出できるイオノゲン化合物である活性化剤化合物を、有機酸溶液および無機酸溶液またはこれらの一方である溶媒内に均一に分散させ、(b)スルフォン酸である陰イオン界面活性剤をステップ(a)で得た溶液に添加し、(c)ステップ(b)で得た溶液を触媒化すべき表面に設けることを特徴とする方法。
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特公昭52-016852
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特開昭49-057371
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