特許
J-GLOBAL ID：200903084040946831
Kセル型蒸着源
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
越場 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-182882
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031741
出願日： 1994年07月12日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【構成】 加熱用ヒータ2が周囲に巻きつけられた坩堝1と、坩堝1を収納し、上部にオリフィス4を有するケース3と、オリフィス4を実質的に開閉可能なシャッター5を備える。シャッター5は、ケース3よりやや大きい直径を有する円板状であり、一端に軸6が取りつけられ、軸6を中心に回転可能に構成され、さらにルーバー型開口部7を備える。【効果】 シャッター5が閉じていると、分子線は遮断されるが、坩堝1の熱は、ルーバー型開口部7から放出される。従って、シャッター5が閉じていても坩堝1の温度が上昇することがなく、シャッターを開けばその直後から安定した分子線が放射される。
請求項（抜粋）：
坩堝と、坩堝の加熱手段と、分子線の供給を制御する開閉可能なシャッターを備えるKセル型蒸着源において、シャッターが閉じている状態でも、坩堝からの熱放出が妨げられず、坩堝温度の上昇を防ぐように構成されていることを特徴とするKセル型蒸着源。
IPC (3件)：
H01L 21/203
, C23C 14/24
, C30B 25/16
