特許

J-GLOBAL ID：200903084042394763

薬液処理装置及び薬液処理方法

発明者： 山崎 利幸
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-067547
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261609
出願日： 1997年03月21日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 薬液処理装置では、薬液供給ノズルの供給下端に溜まった液滴が落下してウエハの汚染を引き起こす。【解決手段】 薬液処理装置は、ウエハ載置台10と、ウエハ載置台10に載置したウエハWの上方からウエハWの側周に掛けて供給下端21が移動自在に設けられた薬液供給ノズル20と、ウエハWの側周に設けられた液滴除去針40とを備えてなる。液滴除去針40の上端41は、ウエハWの側周でかつ薬液供給ノズル20の供給下端21の最下部22の移動経路付近に配置されている。これによって、ウエハWの側周に薬液供給ノズル20の供給下端21を移動させた場合に、液滴除去針40の上端41を供給下端21における最下部22に溜まった液滴L1 に接触させ、液滴除去針40を伝わらせて液滴L1 を除去する。

請求項（抜粋）：

ウエハ載置台と、当該ウエハ載置台に載置したウエハの上方から当該ウエハの側周に掛けて供給下端が移動自在に設けられた薬液供給ノズルと、を備えた薬液処理装置において、前記ウエハの側周には、液滴除去針が設けられ、前記ウエハの側周でかつ前記供給下端における最下部の移動経路付近には、前記液滴除去針の上端が配置されたこと、を特徴とする薬液処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C