特許
J-GLOBAL ID：200903084043532981
有機EL素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-128067
公開番号（公開出願番号）：特開2005-310639
出願日： 2004年04月23日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 有機層の結晶化を防ぎ、良好なアモルファス状態の有機層を保つように有機EL素子を製造することを目的とする。【解決手段】 有機層材料を不活性ガス雰囲気中で塗布した後、不活性ガスもしくは真空中において、ガラス転移温度Tgよりも10°C以上低い温度で加熱乾燥を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
対向する一対の電極間に、少なくとも有機発光材料からなる発光層を含む有機層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、有機層材料を不活性ガス雰囲気中で塗布した後、不活性ガス雰囲気中もしくは真空中において、ガラス転移温度Tgよりも10°C以上低い温度で加熱乾燥を行うことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
3K007AB03
, 3K007AB11
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA03
