特許

J-GLOBAL ID：200903084047814876

印刷回路用積層板の製造方法

発明者： 田中 巧剛 ,  大鳥 利行 ,  池谷 国夫
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-064684
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198905
出願日： 1985年06月24日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【構成】 有機紫外線吸収物質として、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、及び2-(3-t-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾールから選ばれた1種以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収物質を樹脂分に対して0.1〜5重量%配合する。【効果】 300nm〜400nmにおける紫外線遮蔽効果が大きく、積層板の両面に塗布されたフォトレジストを同時に露光する場合、互いに他面のフォトレジストを露光するというトラブルを防止することができる。

請求項（抜粋）：

エポキシ樹脂を含浸し、乾燥したガラス織布またはガラス不織布基材を積層成形する積層板の製造方法において、有機紫外線吸収物質として、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、及び2-(3-t-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾールから選ばれた1種以上のベンゾトリアゾール系紫外線吸収物質を樹脂分に対して0.1〜5重量%配合することを特徴とする印刷回路用積層板の製造方法。

IPC (2件)：

H05K 1/03 ,  B32B 15/08