特許

J-GLOBAL ID：200903084059947774

放射線画像変換パネルの製造方法

発明者： 日高 総一郎 ,  岩瀬 信博 ,  只木 進二
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 山田 正紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277663
公開番号（公開出願番号）：特開平8-136700
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：

【要約】【目的】再生画像の画質を向上させる放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。【構成】輝尽性蛍光体BaFBr:Euと、この輝尽性蛍光体に対して0.5wt%の結着剤と、溶剤とを混合してスラリーを製造し、このスラリーをドクターブレード法で支持体上に300μmの厚さに塗布した。スラリーを支持体に塗布するに当たっては、温度が5°Cに保持された環境の容器内で塗布し、支持体をこの容器内に塗布後約3時間放置してスラリー中の輝尽性蛍光体粒子を十分に沈殿させた。その後、支持体を容器から取り出し、約25°Cの室温で揮発成分を揮発させスラリーを乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成した後、輝尽性蛍光体層に保護膜を接着し放射線画像変換パネルを製造した。

請求項（抜粋）：

輝尽性蛍光体、該輝尽性蛍光体を結着するための結着剤、及び前記輝尽性蛍光体と前記結着剤とを分散させる揮発性の溶剤を混合することにより、前記輝尽性蛍光体、前記結着剤、及び前記溶剤からなるスラリーを製造するスラリー製造工程と、該スラリーを支持体に塗布するスラリー塗布工程と、前記支持体に塗布された前記スラリーのうち揮発成分を揮発させることにより前記支持体に塗布された前記スラリーを乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成する輝尽性蛍光体層形成工程とを含む放射線画像変換パネルの製造方法において、前記輝尽性蛍光体層形成工程が、前記スラリーが塗布された前記支持体を前記揮発成分の揮発を抑制する第1の環境に所定時間保持し、その後、該支持体を該第1の環境よりも前記揮発成分が揮発しやすい第2の環境に保持することにより前記揮発成分を揮発させ前記支持体に塗布された前記スラリーを乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成するものであることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。