特許

J-GLOBAL ID：200903084062966372

水素製造方法

発明者： 和田 幸男 ,  明珍 宗孝 ,  川口 浩一 ,  堂免 一成
出願人/特許権者： 動力炉・核燃料開発事業団
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-326818
公開番号（公開出願番号）：特開平8-183602
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】【目的】 原子炉から発生する放射線のエネルギーを有効に利用して水素を製造することができる方法を提供する。【構成】 酸化チタン微粒子にパラジウムを担持させた触媒体を水中に懸濁させ、ここにγ線を照射する。すると、γ線のエネルギーにより価電子帯から伝導体へ電子が励起し、この励起した電子はパラジウムの触媒作用によって容易にプロトンに受け渡され、プロトンは水素へと還元される。一方、価電子帯に生じた正孔は、水を酸化して酸素を生じさせるため、γ線のエネルギーを用いて水を分解し、水素を製造することができる。

請求項（抜粋）：

白金族元素を半導体に担持した触媒体を水中に懸濁させ、この懸濁液にγ線を照射することにより水を分解して水素を製造する方法。

IPC (6件)：

C01B 3/08 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/46 311 ,  B01J 35/02 ,  G21H 5/00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-095440
  
• 放射線励起による半導体触媒を用いた水素生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-005460   出願人：株式会社日立製作所