特許

J-GLOBAL ID：200903084064056675

インプリント・リソグラフィ・プロセスおよびシステム

発明者： スリーニヴァッサン,サイドルガタ ,  チェ,ビュン-ジン ,  ワッツ,マイケル ,  シューメーカー,ノーマン ,  ボイシン,ロナルド ,  メイッスル,マリオ ,  ボンネケイズ,ロジャー ,  ウィルソン,グラント
出願人/特許権者： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-529089
公開番号（公開出願番号）：特表2005-533393
出願日： 2003年07月10日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

装置(3900)を使用してインプリント・リソグラフィにより基板のパターン形成を行うプロセスは、インプリント・ヘッド(3100)、活性化光源(3500)、移動ステージ(3600)、パターン形成テンプレート(3700)、インプリント・ヘッド支持材(3910)、移動ステージ支持材(3920)、ブリッジ支持材(3930)、支持台(3940)を備える。

請求項（抜粋）：

テンプレートを使用して基板上にパターンを形成する方法であって、 テンプレートと基板との間に間隙ができるように互いに間隔をあけた関係でテンプレートと基板を位置決めすることと、 光活性光硬化液で実質的に間隙を満たすことと、 光活性光硬化液を固化させることを含む方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  B29C35/08

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C35/08

Fターム (13件)：

4F203AA44C ,  4F203AC06 ,  4F203AC07 ,  4F203AD03 ,  4F203AD08 ,  4F203AD18 ,  4F203AG03 ,  4F203AH36 ,  4F203AR06 ,  4F203DA12 ,  4F203DB01 ,  4F203DJ05 ,  5F046BA10