特許
J-GLOBAL ID：200903084072557187
露光方法及び該露光方法を用いるデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-276941
公開番号（公開出願番号）：特開平7-130632
出願日： 1993年11月05日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：
【要約】【目的】 安定した解像力を得ること。【構成】 照明手段10からの露光光と投影光学系13に対してレチクル11とウエハ14とを走査することによりレチクル11のデバイスパターンの像を投影光学系13を介してウエハ14上に投影する段階を含む露光方法において、レチクル11のデバイスパターンの像とウエハ14上のパターン領域を走査方向に関して正確に重ね合わせるため投影光学系13の投影倍率N<SB>op</SB>とは異なる速度比N<SB>st</SB>でレチクル11とウエハ14とを走査する時、以下の式を満たすよう投影光学系の倍率N<SB>op</SB>、レチクル11の走査速度とウエハ14の走査速度等を設定し、走査露光を行なう。0<|N<SB>op</SB>-N<SB>st</SB>|・b<Δ1ここで、bは前記露光光が前記原板上に形成する露光領域の走査方向の幅、Δ1は前記基板上に投影されるパターンの前記基板上での最小線幅を示す。
請求項（抜粋）：
露光光と投影光学系に対して原板と基板とを走査することにより前記原板のパターンを前記投影光学系を介して前記基板上に投影する段階を含む露光方法において、前記投影光学系の投影倍率N<SB>op</SB>とは異なる速度比N<SB>st</SB>で前記原板と基板とを走査する時に以下の式を満たすことを特徴とする露光方法。0<|N<SB>op</SB>-N<SB>st</SB>|・b<Δ1ここで、bは前記露光光が前記原板上に形成する露光領域の走査方向の幅、Δ1は前記基板上に投影されるパターンの前記基板上での最小線幅を示す。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
