特許

J-GLOBAL ID：200903084081162977

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： 柳沢 暢生 ,  中村 次雄 ,  志摩 泰正
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-143512
公開番号（公開出願番号）：特開平10-314686
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】 基板に付着したパーティクルを多量の純水を使用することなく短時間に除去することのできる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板洗浄装置は、搬送ローラ2によって搬送される基板1の主面に、電解質を微量添加した水を電気分解して得られる還元性を有するアルカリイオン水を供給するための複数のアルカリイオン水供給部3と、純水供給管4から吐出される純水に対して超音波発振子5によりメガヘルツ単位の超音波振動を付与することにより超音波水を生成し、この超音波水を搬送ローラ2によって搬送される基板1の主面に供給する超音波水供給部6とを有する。

請求項（抜粋）：

電解質を微量添加した水を電気分解して得られる還元性を有するアルカリイオン水を基板の主面上に満たす第1洗浄工程と、前記第1洗浄工程の後の基板の主面に超音波振動が付与された純水を供給する第2洗浄工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B 3/12 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

B08B 3/12 A ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/306 J