特許
J-GLOBAL ID：200903084089703900
平面インダクタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-121621
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315177
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】 周波数特性に優れたインダクタンスとQ値を備えた小型薄型の平面インダクタを量産性よく製造する。【構成】 絶縁性の第1の磁性体基板1の上にコイル状の溝5を形成する工程と、磁性体基板1の上に導体膜6を形成した後表面を研磨してコイル状の溝5内に導線2を形成する工程と、コイル状の溝5内に形成された導線2を絶縁性の第2の磁性体基板3で被覆する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
絶縁性の第1の磁性体基板上にコイル状の溝を形成する工程と、磁性体基板上に導体膜を形成した後表面を研磨してコイル状の溝内に導線を形成する工程と、前記コイル状の溝内に形成された導線を絶縁性の第2の磁性体基板で被覆する工程とを有する平面インダクタの製造方法。
IPC (2件)：
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