特許

J-GLOBAL ID：200903084095131519

基板処理装置

発明者： 村岡 祐介
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-305606
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145099
出願日： 1997年11月07日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】 処理液の消費量を低減しても均一な処理が行える基板処理装置を提供する。【解決手段】 密閉チャンバ10内に処理槽20が配置され、処理槽20には処理液が貯留されている。基板Wは回転台30によって処理槽20の処理液中に浸漬されるように保持されている。そして、基板Wはモータ32によって処理液中で回転され、基板洗浄処理が行われる。洗浄処理中は基板Wの表面に常に液膜が存在することになり、薬液や純水の供給量を減じたとしても不十分な液膜に起因して処理が不均一になることはない。したがって、従来よりも薬液や純水の供給量を減らすことができ、薬液や純水の消費量を低減することが可能となり、基板処理工程におけるコストダウンが可能となる。

請求項（抜粋）：

基板に対して処理液を使用しつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、(a) 前記処理液を貯留する処理槽と、(b) 前記処理液を前記処理槽に供給する処理液供給手段と、(c) 前記処理槽から前記処理液を排出する処理液排出手段と、(d) 前記処理槽内に配置され、前記処理槽に貯留された前記処理液内に前記基板を保持する基板保持手段と、(e) 前記基板保持手段によって前記基板が前記処理液内に保持された状態で、前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341

FI (2件)：

H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/304 341 N