特許

J-GLOBAL ID：200903084110083330

防曇反射防止光学物品

発明者： 宇久田 秀雄 ,  畠山 英之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-236534
公開番号（公開出願番号）：特開2003-043207
出願日： 2001年08月03日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【目的】 防曇効果と反射防止性及び耐候性を兼ね備えた防曇反射防止光学物品を提供すること。【構成】 光学物品の基材上にベンゾフェノール系化合物と2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン系ヒンダードアミン化合物を含む吸水性高分子を主成分とする第1の吸水膜と、その外層に位置する高屈折率薄膜と、更にその外層に位置するベンゾフェノール系化合物と2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン系ヒンダードアミン化合物を含む吸水性高分子を主成分とする第2の吸水膜を有する防曇反射防止光学物品において、前記高屈折率薄膜が金属アルコキシドの加水分解率が0.7〜0.8(金属アルコキシドが全て反応する場合を1とする)に制御された金属アルコキシド溶液をコート後、焼成することにより防曇反射防止光学物品を構成する。

請求項（抜粋）：

光学物品の基材上に(1)式で表されるベンゾフェノール系化合物と2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン系ヒンダードアミン化合物を含む吸水性高分子を主成分とする第1の吸水膜と、その外層に位置する高屈折率薄膜と、更にその外層に位置する(1)式で表されるベンゾフェノール系化合物と2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジン系ヒンダードアミン化合物を含む吸水性高分子を主成分とする第2の吸水膜を有する防曇反射防止光学物品において、前記高屈折率薄膜が金属アルコキシドの加水分解率が0.7〜0.8(金属アルコキシドが全て反応する場合を1とする)に制御された金属アルコキシド溶液をコート後、焼成することにより形成されることを特徴とする防曇反射防止光学物品。(1)式(1)式中のX1 〜X10は水素、ヒドロキシル基、スルホン酸基、カルボキシル基、アシル基、エステル基、エーテル基、炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシル基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基又はヒドロキアルコキシル基から選ばれる基であって、同一でも異なるものでも良い。但し、X1 〜X10の少なくとも1はヒドロキシル基又はスルホン酸基から選ばれる。

IPC (5件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/18 ,  C03C 17/42 ,  G02B 1/10

FI (5件)：

B32B 7/02 103 ,  B32B 27/18 C ,  C03C 17/42 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z

Fターム (45件)：

2K009AA05 ,  2K009BB02 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  2K009EE02 ,  4F100AG00A ,  4F100AH02B ,  4F100AH02D ,  4F100AH03B ,  4F100AH03D ,  4F100AH07B ,  4F100AH07D ,  4F100AH08C ,  4F100AK01B ,  4F100AK01D ,  4F100AK21 ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100CA10B ,  4F100CA10D ,  4F100EH462 ,  4F100EJ482 ,  4F100JD15B ,  4F100JD15D ,  4F100JL07 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JM02D ,  4F100JN06 ,  4F100JN18C ,  4G059AA11 ,  4G059AC04 ,  4G059AC21 ,  4G059FA01 ,  4G059FA05 ,  4G059FA07 ,  4G059FA22 ,  4G059FA25 ,  4G059FB06 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA11