特許
J-GLOBAL ID：200903084115969905
密着性のすぐれた電気絶縁性被膜を有するR-Fe-B系永久磁石とその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-165404
公開番号（公開出願番号）：特開平9-326308
出願日： 1996年06月04日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】【課題】 R-Fe-B系永久磁石体表面に、局部的あるいは所要面のみに十分な密着性を付与して電気絶縁性にすぐれたポリイミド被膜を形成し、局部的に電気絶縁性が求められる電子機器やモーターなどを駆動する場合に使われるリレー(電磁開閉器)等の用途に適したR-Fe-B系永久磁石。【解決手段】 磁石表面をイオンスパッター法等により清浄化した後、前記磁石体表面にめっき法あるいはイオンプレーティング法等の気相薄膜形成法により、R-Fe-B系永久磁石との密着性の良好な特定膜厚のAl、Ti、Ni、Zn、Sn、Fe等の金属または合金被膜による下地金属膜を形成後、下地金属膜上にリン酸塩処理を行い、リン酸塩被膜との密着性およびポリイミド樹脂との密着性の良好なシランカップリング剤を施した後、最表面上にポリイミド樹脂を蒸着重合法により形成する。
請求項（抜粋）：
主相が正方晶からなるR-Fe-B系永久磁石体表面に、膜厚1.0μm〜10μmの下地金属膜を施した後、下地金属膜上にリン酸塩被膜とシランカップリング剤および最表面に膜厚2.0μm〜10μmのポリイミドの被膜を積層したことを特徴とする密着性のすぐれた電気絶縁性被膜を有するR-Fe-B系永久磁石。
IPC (3件)：
H01F 1/053
, C23C 28/00
, H01F 41/02
H01F 1/04 H
, C23C 28/00 C
, H01F 41/02 G
