特許

J-GLOBAL ID：200903084126860085

検査装置および検査方法

発明者： 生江 隆男 ,  高橋 克幸 ,  小林 賢一
出願人/特許権者： 株式会社ホロン
代理人 (1件)： 岡田 守弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-233005
公開番号（公開出願番号）：特開2007-047060
出願日： 2005年08月11日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【目的】本発明は、電子線ビームを試料に照射して走査し、反射された反射電子を検出・増幅して当該試料の反射電子像を生成する検査装置および検査方法に関し、従来の2次電子像のような端面強調型の画像ではなく、質量強調型の反射電子像によりパターンの形状や異物などの検査を容易かつ高精度に行うことを目的とする。【構成】 試料上あるいは試料を固定した試料移動台上の較正パターンの反射電子像をもとに反射電子像のゲインとレベルを調整する手段と、調整した後のゲインとレベルをもとに、試料の検査対象の領域の反射電子像を生成する手段とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

電子線ビームを試料に照射して走査し、反射された反射電子を検出・増幅して当該試料の反射電子像を生成する検査装置において、 前記試料上あるいは当該試料を固定した試料移動台上の較正パターンの前記反射電子像をもとに当該反射電子像のゲインとレベルを調整する手段と、 前記調整した後のゲインとレベルをもとに、前記試料の検査対象の領域の反射電子像を生成する手段と を備えたことを特徴とする検査装置。

IPC (4件)：

G01N 23/225 ,  H01J 37/28 ,  H01J 37/22 ,  G03F 1/08

FI (4件)：

G01N23/225 ,  H01J37/28 B ,  H01J37/22 502H ,  G03F1/08 S

Fターム (16件)：

2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2H095BD03 ,  2H095BD04 ,  2H095BD14 ,  2H095BD22 ,  2H095BD28 ,  5C033UU05