特許

J-GLOBAL ID：200903084129738574

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

発明者： 仁王 宏之 ,  田村 一貴 ,  妹尾 将秀
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-352490
公開番号（公開出願番号）：特開2002-156762
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】a)アルカリ可溶性基を下記一般式(1)で示される酸脱離基で保護した化合物およびb)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。【化1】(R1〜R3はアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、芳香環、電子供与性基を有する芳香環のいずれかで表され、R1〜R3のうち少なくとも1つが電子供与性基を有する芳香環で表される。R1〜R3はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。)

請求項（抜粋）：

a)アルカリ可溶性基を一般式(1)で示される酸脱離基で保護した化合物およびb)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(R1〜R3はアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、芳香環、電子供与性基を有する芳香環のいずれかで表され、R1〜R3のうち少なくとも1つが電子供与性基を有する芳香環で表される。R1〜R3はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。)

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/50 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/50 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (41件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA10 ,  4J002BC121 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BG111 ,  4J002EB106 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV216 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08P ,  4J100AL26P ,  4J100AM05P ,  4J100BA02P ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA10P ,  4J100BA31P ,  4J100BC43P ,  4J100BC49P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38