特許
J-GLOBAL ID：200903084143658540
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291852
公開番号（公開出願番号）：特開平7-140649
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】高感度かつ時間経過に伴う異物の発生のないポジ型フォトレジスト組成物を得ること。【構成】2,2’,3,4,4’-ペンタヒドロキシベンゾフェノンの1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸のエステルまたは1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸のエステルで、平均して2.5〜4.5個の水酸基がエステル化されている1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、2,2’,3,4,4’-ペンタヒドロキシベンゾフェノンの1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸のエステル、または1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸のエステルであって、平均して2.5〜4.5個の水酸基がエステル化されている、1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
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