特許

J-GLOBAL ID：200903084144713073

真空排水処理装置

発明者： 金子 順也 ,  山中 潤一 ,  北村 総謁
出願人/特許権者： 株式会社イナックス
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-106838
公開番号（公開出願番号）：特開2000-297800
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 エジェクタ用のポンプを排水処理用のポンプと兼用させた真空排水処理装置を提供する。【解決手段】 厨房20内には複数個のシンク21,22,23が設置され、それぞれディスポーザ10が接続されている。ディスポーザー10の排出口11に接続配管3が接続され、該接続配管3に給気管12と真空弁コントローラ14とが設けられている。真空弁4は立上管25及び排水横枝管5を介して縦排水管6に接続されている。立上管25とチューブ16とがチューブ26を介して連通されており、このチューブ26に開閉弁27が設けられている。圧力センサ28の検出負圧が過大なときには開閉弁27が開く。縦排水管6は流量調整槽50内にエジェクタ55に接続されている。エジェクタ55へは水移動を兼用するポンプ51から給水される。

請求項（抜粋）：

真空排水管と、この真空排水管内に負圧を与える負圧発生装置と、該真空排水管内から排水が流入する排水処理装置とを有し、該排水処理装置には水を送るためのポンプが設置されている真空排水処理装置において、該負圧発生装置として、該ポンプの吐出水が導入されるエジェクタを設置し、該ポンプの吐出水の該排水処理装置への分流量を調整する弁を設けたことを特徴とする真空排水処理装置。

IPC (3件)：

F04F 5/04 ,  C02F 1/24 ,  E03F 5/22

FI (3件)：

F04F 5/04 B ,  C02F 1/24 A ,  E03F 5/22

Fターム (18件)：

2D063AA07 ,  2D063DC04 ,  3H079AA14 ,  3H079AA22 ,  3H079BB04 ,  3H079CC21 ,  3H079DD02 ,  3H079DD14 ,  3H079DD25 ,  3H079DD28 ,  3H079DD42 ,  3H079DD48 ,  3H079DD54 ,  4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037BA02 ,  4D037BB03 ,  4D037BB07