特許

J-GLOBAL ID：200903084148899694

電磁界処理装置

発明者： 深町 進平
出願人/特許権者： エスケーエイ株式会社
代理人 (1件)： 西郷 義美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216088
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038362
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【目的】 この発明の目的は、流体流路を構成する管体内面へのスケールの付着防止や付着スケールの除去、管体内面の腐食防止を果たすことにある。【構成】 このため、この発明は、流体流路を構成する管体の外側にコイルを設け、このコイルに流す電流を供給する電源部を設け、この電源部の供給する電流を特定周波数帯域で周波数が時間的に変化する特定波形の電磁界誘起電流に変換して前記コイルに供給するよう制御する電流制御部を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

流体流路を構成する管体の外側にコイルを設け、このコイルに流す電流を供給する電源部を設け、この電源部の供給する電流を特定周波数帯域で周波数が時間的に変化する特定波形の電磁界誘起電流に変換して前記コイルに供給するよう制御する電流制御部を設けたことを特徴とする電磁界処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/48 ,  B67D 5/58 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 ,  F16L 58/00

FI (6件)：

C02F 1/48 A ,  C02F 1/48 B ,  B67D 5/58 D ,  C02F 5/00 610 B ,  C02F 5/00 610 A ,  F16L 58/00

Fターム (7件)：

3E083AA20 ,  3E083AH08 ,  3H024DA04 ,  4D061DA03 ,  4D061DB05 ,  4D061EA17 ,  4D061EC11