特許
J-GLOBAL ID：200903084150176586
ドライエツチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
守谷 一雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-262405
公開番号（公開出願番号）：特開平5-102086
出願日： 1991年10月09日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】発光スペクトルの変化を監視することにより、正確にエッチング終点を検出することができるドライエッチング方法を提供する。【構成】被処理体をエッチングガスによりドライエッチングするに際し、エッチングガスの活性種CF2ガスの発光強度及び反応生成物CO、CO+の発光強度をそれぞれ検出し、所定の指定区間についてCF2ガスの発光強度と反応生成物の発光強度に所定の演算をして係数を求める。次いで、得られる発光強度についてこれら係数に基づく演算をした後、2つの発光強度の比を求める。この比の変化を監視し、比の変化に基づいてドライエッチングの終点を決定し、必要に応じオーバーエッチングをコントロールする。【効果】アルゴンガス等の多量の添加ガスを含む系であっても、また面積当りの被エッチング領域の狭い(開口率の低い)エッチング対象であっても、正確に生成ガスの変化を検出することができる。
請求項（抜粋）：
被処理体をエッチングガスによりドライエッチングするに際し、前記エッチングガスの活性種の発光強度及び反応生成物の発光強度をそれぞれ検出し、前記活性種の発光強度と前記反応生成物の発光強度を所定の演算をした後、2つの発光強度の比を求め、この比に基づいてドライエッチングの終点を決定することを特徴とするドライエッチング方法。
引用特許：
前のページに戻る
