特許
J-GLOBAL ID：200903084158647294
露光装置のフォーカスモニター方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-002785
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199793
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 正確なデフォーカス量を得ることができる露光装置のフォーカスモニター方法を提供する。【解決手段】 露光装置のフォーカスモニター方法である。(1)2個の大型パターン領域12A、Bと、大型パターン領域を連結し、かつ幅が局所的に縮小する縮小部16を備える帯状領域18とを有し、縮小部の幅が相互に異なるのみの同じ多数のパターン10からなるパターン群をフォトマスク上に形成するステップと、(2)異なるデフォーカス量毎に、そのデフォーカス量で露光してパターン群を感光性材料層に転写するステップと、(3)設定デフォーカス量での露光毎に、パターンの縮小部に対応した転写パターンの縮小部が物理的に分離している転写パターンを特定するステップと、(4)特定した転写パターンに対応するパターンをパターン群から特定し、特定したパターンの帯状領域の縮小部のうちの最大幅を求め、デフォーカス量と縮小部の最大幅との対応関係からなる検量線を作製するステップとを備える。検量線から許容デフォーカス量を求める。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィにより転写パターンを形成する際に使用する露光装置のフォーカシングをモニターする方法であって、(1)複数個の大型パターン領域と、大型パターン領域同士を連結し、かつ幅が局所的に縮小する縮小部を備える帯状領域とを有し、縮小部の幅が相互に異なることを除いて同じ寸法の複数個のパターンからなるパターン群をフォトマスク上に形成するステップと、(2)相互に異なるように設定したデフォーカス量毎に、その設定デフォーカス量の条件下で露光してフォトマスクのパターン群を基体上の感光性材料層に転写するステップと、(3)設定デフォーカス量での露光毎に、転写パターンの群のうち、フォトマスクのパターンの縮小部に対応した転写パターンの縮小部で物理的に分離している転写パターンを特定するステップと、(4)設定デフォーカス量での露光毎に、特定した転写パターンに対応するフォトマスクのパターンをパターン群から特定し、その特定したパターンの縮小部のうちの最大幅を求め、デフォーカス量と縮小部の最大幅との対応関係からなる検量線を作製するステップとを備え、検量線から許容デフォーカス量を求めることを特徴とする露光装置のフォーカスモニター方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 Z
, G03F 7/207 H
