特許
J-GLOBAL ID:200903084166355014
可変流体メニスカス構造の形成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
伊東 忠彦
, 大貫 進介
, 伊東 忠重
, 永坂 均
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-570710
公開番号(公開出願番号):特表2006-509263
出願日: 2003年11月21日
公開日(公表日): 2006年03月16日
要約:
エレクトロウェッティングによる可変構造を備える流体メニスカスを提供するための装置。流体チャンバが、メニスカス(14)によって分離された2つの異なる流体(A,B)を保持する。メニスカスの縁部は異なる側面を有し、且つ、前記流体チャンバによって拘束される。第一エレクトロウェッティング電極(2)がメニスカスの縁部の第一側部に作用するよう配置され、第二エレクトロウェッティング電極(2')がメニスカスの縁部の第二速部に別々に作用するよう配置されている。第一及び第二エレクトロウェッティング電極の各々に異なる電圧を提供することによって、選択されたメニスカス構造を形成し得る。
請求項(抜粋):
流体チャンバと、
メニスカスによって分離された2つの異なる流体と、
第一エレクトロウェッティング電極と、
第二エレクトロウェッティング電極と、
選択されたメニスカス構造を形成するために、前記第一エレクトロウェッティング電極及び前記第二エレクトロウェッティング電極の各々に異なる電圧を提供する電圧制御システムとを有し、
前記メニスカスの縁部は異なる側面を有し、且つ、前記流体チャンバによって拘束され、
前記第一エレクトロウェッティング電極は、前記メニスカスの前記縁部の第一側部に作用するよう配置され、
前記第二エレクトロウェッティング電極は、前記メニスカスの前記縁部の第二側部に別々に作用するよう配置されている、
ことを特徴とするエレクトロウェッティングによる可変構造を備えた流体メニスカスを提供するための装置。
IPC (2件):
FI (3件):
G02B3/14
, G02B23/24 B
, G02B23/24 C
Fターム (5件):
2H040BA04
, 2H040CA12
, 2H040CA23
, 2H040DA01
, 2H040GA02
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