特許

J-GLOBAL ID：200903084166355014

可変流体メニスカス構造の形成装置

発明者： カイペル,ステイン ,  ファン デ ワレ,ヘルヤン エフ アー ,  ウォルテリンク,エドウィン エム ,  メルテンス,マルク イェー ウェー ,  フェーンストラ,ボケ イェー
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (4件)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重 ,  永坂 均
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-570710
公開番号（公開出願番号）：特表2006-509263
出願日： 2003年11月21日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

エレクトロウェッティングによる可変構造を備える流体メニスカスを提供するための装置。流体チャンバが、メニスカス(14)によって分離された2つの異なる流体(A,B)を保持する。メニスカスの縁部は異なる側面を有し、且つ、前記流体チャンバによって拘束される。第一エレクトロウェッティング電極(2)がメニスカスの縁部の第一側部に作用するよう配置され、第二エレクトロウェッティング電極(2')がメニスカスの縁部の第二速部に別々に作用するよう配置されている。第一及び第二エレクトロウェッティング電極の各々に異なる電圧を提供することによって、選択されたメニスカス構造を形成し得る。

請求項（抜粋）：

流体チャンバと、 メニスカスによって分離された2つの異なる流体と、 第一エレクトロウェッティング電極と、 第二エレクトロウェッティング電極と、 選択されたメニスカス構造を形成するために、前記第一エレクトロウェッティング電極及び前記第二エレクトロウェッティング電極の各々に異なる電圧を提供する電圧制御システムとを有し、 前記メニスカスの縁部は異なる側面を有し、且つ、前記流体チャンバによって拘束され、 前記第一エレクトロウェッティング電極は、前記メニスカスの前記縁部の第一側部に作用するよう配置され、 前記第二エレクトロウェッティング電極は、前記メニスカスの前記縁部の第二側部に別々に作用するよう配置されている、 ことを特徴とするエレクトロウェッティングによる可変構造を備えた流体メニスカスを提供するための装置。

IPC (2件)：

G02B 3/14 ,  G02B 23/24

FI (3件)：

G02B3/14 ,  G02B23/24 B ,  G02B23/24 C

Fターム (5件)：

2H040BA04 ,  2H040CA12 ,  2H040CA23 ,  2H040DA01 ,  2H040GA02

引用特許：

出願人引用 (7件)

• 可変焦点レンズ
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-515192   出願人：ユニヴェルシテジョセフフーリエ
• 光学素子、光学装置および撮影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-366177   出願人：キヤノン株式会社
• 光スイッチ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-169377   出願人：キヤノン株式会社
• 可変焦点レンズ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-181747   出願人：キヤノン株式会社
• 光学系及び光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-174971   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開昭61-038903
  
• 特開平2-226102