特許
J-GLOBAL ID:200903084193131420

光学素子成形用成形型およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 増田 達哉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-090947
公開番号(公開出願番号):特開平11-268920
出願日: 1998年03月19日
公開日(公表日): 1999年10月05日
要約:
【要約】【課題】母材との熱膨張係数の相違等に起因する金属薄膜のクラックの発生および剥離等の問題のない光学素子成形用成形型を提供する。【解決手段】本発明の光学素子成形用成形型1は、光学素子をプレス成形する成形有効面4に近似する形状をもつ母材2と、該母材2に積層され前記成形有効面4が形成された金属薄膜3とを有し、金属薄膜3が積層される母材表面の平均表面粗さ(Ra)が1.1〜20nmであることを特徴とする。さらに、母材表面の最大表面粗さ(Rmax )は0.2μm以下であることが好ましい。
請求項(抜粋):
光学素子をプレス成形する成形有効面に近似する形状をもつ母材と、該母材に積層され前記成形有効面が形成された金属薄膜とを有する光学素子成形用成形型において、前記金属薄膜が積層される前記母材表面の平均表面粗さ(Ra)が1.1〜20nmであることを特徴とする光学素子成形用成形型。
IPC (3件):
C03B 11/00 ,  C03B 11/08 ,  C03B 40/02
FI (3件):
C03B 11/00 M ,  C03B 11/08 ,  C03B 40/02

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