特許

J-GLOBAL ID：200903084203814105

磁場均一度調整方法および装置

発明者： 佐藤 隆洋 ,  久保 浩一郎 ,  宇野 英明 ,  吉澤 史浩 ,  河野 一博 ,  佐藤 健志 ,  伊藤 祐介 ,  伊藤 誉 ,  加藤 康司
出願人/特許権者： ジーイー横河メディカルシステム株式会社
代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-029216
公開番号（公開出願番号）：特開平8-215168
出願日： 1995年02月17日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：

【要約】【目的】 シミング作業の労力と時間を削減した、パッシブシミング法による磁場均一度調整方法および装置を実現することである。【構成】 被調整磁場の近辺に配置される磁場均一度調整用の磁性体として、磁性体に温度調節手段を組み合わせたシムパック412を用い、温度調節手段で磁性体の温度を調整することによりその透磁率を変えて、被調整磁場の均一度を調整する。

請求項（抜粋）：

被調整磁場の近辺に配置された磁性体により前記磁場の均一度を調整する方法において、前記磁性体の透磁率を温度によって変化させることを特徴とする磁場均一度調整方法。

IPC (2件)：

A61B 5/055 ,  G01R 33/3873

FI (2件)：

A61B 5/05 331 ,  G01N 24/06 520 E