特許

J-GLOBAL ID：200903084205321262

塗布処理装置

発明者： 松田 義隆 ,  溝崎 健吾
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-088468
公開番号（公開出願番号）：特開2001-269609
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】 例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板や半導体ウエハ等の基板の表面にレジスト液等の塗布液を用いて塗布膜を形成する際、余剰に供給された塗布液の回収を可能とする塗布処理装置を提供する。【解決手段】 チャンバ41内に載置された基板Gに塗布液を塗布する処理装置22aにおいて、チャンバ41の内側に基板Gの外周を包囲するように塗布液回収手段として回収ピット50を設けた。

請求項（抜粋）：

チャンバ内に載置された基板に塗布液を塗布する処理装置であって、前記チャンバの内側に前記基板の外周を包囲するように塗布液回収手段が設けられていることを特徴とする塗布処理装置。

IPC (6件)：

B05C 11/10 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/00 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

B05C 11/10 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/00 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 D

Fターム (24件)：

2H025AB13 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC84 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042CC07 ,  4F042CC15 ,  4F042CC30 ,  4F042EB04 ,  4F042EB07 ,  4F042EB23 ,  5F046JA06 ,  5F046JA08 ,  5F046JA27