特許
J-GLOBAL ID：200903084213291011
走査投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-204638
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053113
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【目的】半導体や液晶表示装置基板の製造に用いられる走査投影露光装置を大型基板の露光が簡単に行なえ、走査のヨーイングや横振れがパターン歪とならないようにする。【構成】光源8の光をマスク11に照射する手段と、2個の凹面鏡13,15と1個の平面鏡12と1個の凸面鏡14と1個の左右反転鏡16より構成され、前記マスク11のパターンを基板17に投影する1:1正立投影光学系と、マスク11および基板17を相対位置を変えずに保持する機構と、この保持機構を一体的に走査運動させる走査手段を備えた構成とする。
請求項（抜粋）：
光源と、その光をマスクに照射する手段と、2個の凹面鏡と1個の平面鏡と1個の凸面鏡と1個の左右反転鏡により構成され、マスクのパターンを基板に投影する1:1正立投影光学系と、前記マスクおよび基板を相対位置を変えずに保持する保持機構と、前記保持機構または光学系を一体的に走査運動させる走査手段よりなる走査投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
