特許
J-GLOBAL ID:200903084238595287
プラズマ発生装置、そのチャンバ-内壁保護部材及びその製造法、チャンバ-内壁の保護方法並びにプラズマ処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
穂高 哲夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-091492
公開番号(公開出願番号):特開2000-200778
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年07月18日
要約:
【要約】【課題】 半導体ウエハの金属汚染、放電異物による歩留まり低下を防止し、デポ膜の除去を容易にし、かつチャンバー内壁との密着性及び量産性に優れたプラズマ発生装置のチャンバー内壁保護部材を提供する。【解決手段】 円筒を円周方向で少なくとも2個以上に円周面に対して垂直に又は垂直±45°の範囲の傾きをもつ線で分割した形状のガラス状炭素部材からなり、これらを円筒状に組み合わせてなるプラズマ発生装置のチャンバー内壁保護部材。
請求項(抜粋):
円筒を円周方向で少なくとも2個以上に円周面に対して垂直に又は垂直±45°の範囲の傾きをもつ線で分割した形状のガラス状炭素部材からなり、これらを円筒状に組み合わせてなることを特徴とするプラズマ発生装置のチャンバー内壁保護部材。
IPC (5件):
H01L 21/3065
, C23C 16/505
, C23F 4/00
, H01L 21/31
, H05H 1/46
FI (5件):
H01L 21/302 B
, C23C 16/50 B
, C23F 4/00 A
, H01L 21/31 C
, H05H 1/46 A
Fターム (28件):
4K030CA04
, 4K030CA05
, 4K030CA12
, 4K030FA03
, 4K030GA02
, 4K030KA12
, 4K030KA30
, 4K030KA46
, 4K057DM01
, 4K057DM02
, 4K057DM06
, 4K057DM08
, 4K057DM37
, 4K057DM40
, 4K057DN01
, 5F004AA00
, 5F004BA04
, 5F004BB18
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC08
, 5F045DP01
, 5F045DP02
, 5F045DP03
, 5F045EB03
, 5F045EF05
, 5F045EH13
, 5F045EH14
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