特許

J-GLOBAL ID：200903084239170000

熱処理方法及びその装置

発明者： 大加瀬 亘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-046342
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222522
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】 被処理体を例えば1枚づつ保持具に載せて、移載室からその上方の熱処理領域まで移動させ、被処理体が昇降する高さ領域に排気口が開口している熱処理装置において、被処理体の昇降に伴う排気管の逆流を防止すること。【構成】 排気管5a、5bの排気口及びその近傍の高さ領域ではウエハ保持具25を低速で昇降させ、それ以外の領域では高速で昇降させてスループットを確保する。また排気管5a、5b、処理ガス供給管3a、3b、パージガス供給管6a、6b、7a、7b、8に圧力調整用バルブを設け、排気管5a、5bのバルブの上流側の圧力を下流側より高く設定し、かつ処理ガス供給路内の圧力>パージガスの供給口付近の圧力>排気口付近の圧力となるよう各バルブを調整する。

請求項（抜粋）：

加熱炉に囲まれた反応容器と、この反応容器の下方側に設けられ、被処理体の移載を行うための移載室と、前記反応容器と移載室との間で昇降し、被処理体を保持するための被処理体保持部と、前記反応容器内における熱処理領域と移載室との間に開口する排気口とを有し、前記反応容器内にて被処理体保持部に保持された被処理体を処理ガスを供給しながら熱処理する装置において、前記被処理体保持部を、前記排気口及びその近傍の高さ領域においては、前記排気口にて反応容器内のガスが逆流しない程度の速度で昇降させることを特徴とする熱処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/22 511 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

FI (4件)：

H01L 21/22 511 A ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/324 D