特許
J-GLOBAL ID：200903084242606390
パターン2値化方法とこれを用いた配線パターン検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-051610
公開番号（公開出願番号）：特開2000-251069
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 基材上に形成された配線パターンを高精度に検出できるようにする。【解決手段】 基本閾値th1及び不足系欠陥(例えば、ピンホール欠陥)検出用閾値thLと余剰系欠陥(例えば、飛散欠陥)検出用閾値thHとからなる3閾値による2値画像と、例えば、ヘアラインショートやヘアライン断線検出用の2次微分閾値th2,th3による2次微分2値画像とを論理合成することにより、正確な配線パターンの2値画像を検出する。不足系欠陥や余剰系欠陥の検出条件を個別に設定することが可能となり、これにより、これら閾値は夫々が最適に設定されて、従来技術では困難であった微小ピンホール欠陥などを安定に検出可能となるし、また、細密なパターン検査を実現できる。
請求項（抜粋）：
プリント基板あるいはセラミック基板などの被検査対象物に形成された配線パターンの濃淡画像を画像入力手段により入力し、2次微分処理手段により該濃淡画像を2次微分画像に変換し、2次微分2値化手段により該2次微分画像を所定の閾値で2値化し、3閾値2値化手段により該濃淡画像を3閾値を用いて2値化し、該2次微分2値化手段によって2値化された2次微分画像と該3閾値2値化手段によって2値化される濃淡画像との論理合成により、該濃淡画像の2値化画像を得ることを特徴とするパターン2値化方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06F 15/62 405 A
, G06F 15/68 320 Z
5B057AA03
, 5B057BA23
, 5B057BA29
, 5B057CE08
, 5B057CF01
, 5B057CF02
, 5B057CH08
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB08
, 5B057DC16
, 5B057DC22
