基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-045421
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241918
出願日： 1995年03月06日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【目的】基板サイズが大型化し、または基板の板厚が小さくなって基板が撓みやすくなっても、基板を基板載置手段から容易に持ち上げることが可能な基板処理装置を提供する。【構成】基板載置手段としてのプレート11に設けられた貫通孔に主リフターピン32が上下方向Zに昇降可能に設けられ、基板載置面12(処理位置)に対して上下方向に出退自在となっている。また、プレート11には、主リフターピン32以外に補助リフターピン41が、主リフターピン32と同様に上下方向Zに昇降可能に設けられ、基板載置面12に対して上下方向Zに出退自在となっている。【効果】主リフターピンと補助リフターピンとが同時に上方に上昇し、それらの上端部で基板を支持しながらプレートから基板を持ち上げるため、基板の持ち上げ処理が容易となる。

請求項（抜粋）：

基板を所定の処理位置に載置して基板処理を行う基板処理装置において、処理されるべき基板が載置されてその基板を処理位置に保持する基板載置手段と、前記処理位置に対して上下方向に出退自在で、処理位置から上方に突出することにより処理位置にある基板をその上端部で支持しながら処理位置より上方の上方位置に移動させる複数の補助移動部材と、前記処理位置に対して上下方向に出退自在で、上方位置にある基板をその上端部で支持しながら上方位置より上方の基板受渡し位置に移動させる複数の主移動部材と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B29D 31/00 , H05K 3/06

FI (3件)：

H01L 21/68 N , B29D 31/00 , H05K 3/06 Q

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