特許

J-GLOBAL ID：200903084247414678

焦点位置計測方法

発明者： 小泉 太一
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-128528
公開番号（公開出願番号）：特開平11-325870
出願日： 1998年05月12日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 現像後にパターンを測定するといった制約をなくすことができ、また、測長結果をグラフ化するなどの時間の浪費をなすことができ、さらには、各ウエハ間、あるいはロット間の寸法ばらつき等を低減できる焦点位置計測方法を提供する。【解決手段】 最良の露光条件が得られている潜像のパターンP3をデータベースとして予め確保しておき、各装置またはウエハの焦点位置を変えて露光して得られる潜像のパターンP1',P2',...を前記データベースのパターンP3とパターン照合し、両パターンが一致した場合の潜像パターンP2'に対応する焦点位置f2'をベストフォーカスとして設定する。

請求項（抜粋）：

各装置またはウエハの焦点位置を変えて露光して得られる潜像のパターンをデータベースとして予め確保しておき、別途、露光して得られた潜像のパターンを前記データベースとパターン照合し、両パターンが一致した場合に、前記データベースの焦点位置を前記別途露光して得られたパターンの焦点位置として設定することを特徴とする焦点位置計測方法。

IPC (5件)：

G01B 21/00 ,  G01B 15/00 ,  G01N 37/00 ,  G03F 9/02 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G01B 21/00 C ,  G01B 15/00 B ,  G01N 37/00 F ,  G01N 37/00 B ,  G03F 9/02 Z ,  H01L 21/30 502 G