特許
J-GLOBAL ID：200903084250341304
シリコンウェーハの洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
千葉 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-351260
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166781
出願日： 1991年12月13日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】洗浄工程が簡単でかつ洗浄効果に優れたシリコンウェーハの洗浄方法を提供する。【構成】金属不純物の濃度が10ppt以下、好ましくは1ppt以下、のアンモニア過酸化水素水からなる洗浄液を用いることにより酸系洗浄を省略したシリコンウェーハの洗浄方法。【効果】本発明の洗浄方法は、酸系洗浄を行なわなくてもアンモニア過酸化水素水による単独洗浄だけで金属汚染と微粒子汚染を効果的に除去することができ、洗浄工程が大幅に簡略化されると共に酸系洗浄を行なわないので廃液処理も容易である。
請求項（抜粋）：
金属不純物の濃度が10ppt以下、好ましくは1ppt以下、のアンモニア過酸化水素水からなる洗浄液を用いることにより酸系洗浄を省略したシリコンウェーハの洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
