特許
J-GLOBAL ID：200903084255012031
被処理基板カセットの搬入装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-280256
公開番号（公開出願番号）：特開平10-107122
出願日： 1996年10月01日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 半導体ウエハの真空処理装置の予備真空室(カセット室)内にカセットを搬入するにあたり、ウエハが縦置きで収容されているカセットを回転させてウエハを横置きの状態にするという作業者の手首の負担を軽減すること。【解決手段】 予備真空室に臨む位置に、予備真空室に対して接近、離隔するように移動体2を設ける。この移動体2は水平な回転軸50により回転し、互いに直交する支持板41、42と、走行機構をなすピニオン31、ラック32とを備えている。駆動軸61を回転させると、第1のカム機構(57、62)により回転軸50が回転してカセットCがほぼ90度回転し、次いで第2のカム機構(36、63)によりピニオン31が回転し、移動体2が前進してカセットCが予備真空室内に搬入される。
請求項（抜粋）：
複数の被処理基板を並列に配列して保持した被処理基板カセットを被処理基板の処理装置の中に搬入する装置において、前記被処理基板が縦置きとなるようにカセットの底部を保持する第1の支持部と、この第1の支持部と共に回転し、カセットが傾いたときにカセットの側面を支持すると共に被処理基板が横置きの状態になったときにはその姿勢におけるカセットの底部を支持する第2の支持部とを含む移動体と、前記カセット内の被処理基板の姿勢が縦置きの状態と横置きの状態との間で変わるように前記第1の支持部および第2の支持部を回転させるための回転機構と、前記第1の支持部または第2の支持部により支持されたカセットを処理装置内と外部との間で移動するように、前記移動体を走行させる走行機構と、を備えたことを特徴とする被処理基板カセットの搬入装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/68 A
, B65G 49/07 L
, B65G 49/07 D
