特許

J-GLOBAL ID：200903084258186391

プロセスコントロール装置

発明者： 井野 利昭 ,  徳山 満 ,  糸山 元幸 ,  大橋 邦夫 ,  浅沼 雅人
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 小森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-224568
公開番号（公開出願番号）：特開平7-077853
出願日： 1993年09月09日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：

【要約】【目的】感光体の回転数等にかかわりなく常に安定した画質を得ることができるようにする。【構成】除電ランプ位置を基準として感光体の1回転目に、除電ランプ光量を小さくしたり帯電電位を大きくすることで1回転目の表面電位を高くして2回転目以降との差を小さくして安定させたり、1回転目の現像電位を小さくすることで1回転目の画像濃度を高くして2回転目以降との差を小さくする。また、温度の影響を無くすために、温度による補正を掛ける。

請求項（抜粋）：

感光体表面電位または感光体上のトナー濃度を検出し、それに基づいて除電ランプ光量を制御するプロセスコントロール装置において、除電ランプ位置を基準として感光体の1回転目に、除電ランプ光量を小さく設定する手段を設けたことを特徴とするプロセスコントロール装置。

IPC (4件)：

G03G 15/00 303 ,  G03G 15/02 102 ,  G03G 15/06 101 ,  G03G 21/06