特許
J-GLOBAL ID：200903084259874186
触媒化学蒸着装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-259432
公開番号（公開出願番号）：特開2000-073172
出願日： 1998年08月27日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：
【要約】【課題】 触媒化学蒸着装置において、基板への熱輻射を低減することでさらなるプロセスの低温化を可能にする。【解決手段】 ガス供給系2によって処理容器1内に蒸着用ガスを供給し、加熱機構30により所定温度に加熱された熱触媒体3の表面付近を蒸着用ガスが通過するようする。基板ホルダー4に保持された基板9に蒸着用ガスが到達し、熱触媒体3が関与した蒸着用ガスの反応を利用して基板9に所定の薄膜が作成される。熱触媒体3は帯状の板材からなるものであり、幅方向が基板9に垂直になるよう設けられているとともに幅方向を折れ線にして折り曲げられている。基板9の表面の一点から熱触媒体3を見込む角度が小さくなるため基板9への熱輻射を低減させることができ、小さな占有空間で大きな表面積となるので熱触媒作用も充分得られる。
請求項（抜粋）：
内部で基板に対して所定の処理がなされる処理容器と、処理容器内に所定の蒸着用ガスを供給するガス供給系と、供給された蒸着用ガスが表面付近を通過するように処理容器内に設けられた熱触媒体と、熱触媒体が関与した蒸着用ガスの反応により所定の薄膜が作成される処理容器内の位置に基板を保持する基板ホルダーとを備えた触媒化学蒸着装置であって、前記熱触媒体は板材又は箔材からなるものであり、板材である場合にはその断面形状において長尺な方の面が、又は、箔材である場合にはその表面が、基板に対して垂直になるように設けられていることを特徴とする触媒化学蒸着装置。
IPC (6件)：
C23C 16/44
, B01J 12/02
, B01J 35/02 311
, C01B 21/068
, C23C 16/30
, H01L 21/205
C23C 16/44 A
, B01J 12/02 A
, B01J 35/02 311 Z
, C01B 21/068 Y
, C23C 16/30
, H01L 21/205
