特許

J-GLOBAL ID：200903084277995217

グレーズドセラミック基板の製造方法

発明者： 黒光 祥郎 ,  豊田 誠司 ,  菅村 邦夫 ,  中林 明
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277280
公開番号（公開出願番号）：特開平8-133878
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：

【要約】【目的】 金属薄膜をファインラインでファインピッチの微細な回路パターンに対してパターン切れを起こすことなく形成でき、金属薄膜の密着性が高い。【構成】 Al2O3基板、AlN基板、SiC基板等の絶縁性セラミック基板上にSiO2が分相もしくは結晶相として存在するガラス層を形成した後、このガラス層を希フッ酸又は強アルカリ水溶液により選択エッチングしてガラス層表面を粗面化する。

請求項（抜粋）：

絶縁性セラミック基板上にSiO2が分相もしくは結晶相として存在するガラス層を形成する工程と、前記ガラス層を希フッ酸又は強アルカリ水溶液により選択エッチングして前記ガラス層表面を粗面化する工程とを含むグレーズドセラミック基板の製造方法。

IPC (6件)：

C04B 41/91 ,  C04B 41/86 ,  H01L 21/306 ,  H01L 23/12 ,  H05K 1/03 630 ,  H05K 3/24

FI (2件)：

H01L 21/306 D ,  H01L 23/12 Q