特許
J-GLOBAL ID：200903084282574017
フォトマスク基板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 邦夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-031971
公開番号（公開出願番号）：特開平5-232688
出願日： 1992年02月19日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】透明マスク基板への高精度描画を可能にすべく基板表面の高さを測定し得るフォトマスクを提供する。【構成】基板表面上に光反射部を持たない透明基板1において、パターン形成領域以外の所定領域内の少なくとも一部にのみ光反射性膜2aを設けて該基板表面の高さ測定を可能にせしめる。
請求項（抜粋）：
基板表面上に光反射部を持たない透明基板において、パターン形成領域以外の所定領域内の少なくとも一部にのみ光反射性膜を設けて該基板表面の高さ測定を可能にせしめたことを特徴とするフォトマスク基板。
IPC (2件)：
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