特許

J-GLOBAL ID：200903084291205415

プラズマ装置のクリーニング方法

発明者： 森 澄雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-159223
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074144
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ装置の処理チャンバー内から塩素成分を効果的に除去するクリーニング方法を提供することを目的とする。【構成】 ガス導入管9より導入した塩素系ガス中でウェハ5のエッチングを行うRIE装置1をクリーニングするには、先ず、ガス導入管10よりフッ素系ガスを導入し、エッチングチャンバ2内に電圧を印加して、上記フッ素系ガスを放電解離させる。これによりエッチングチャンバ2内の塩素系ガスが除去される。その後、エッチングチャンバ2を大気開放し、有機溶剤によって堆積した反応生成物を除去する。

請求項（抜粋）：

プラズマ装置の処理チャンバ内で塩素系ガスを放電解離させてなるプラズマを用いて所定のプラズマ処理を行った後、フッ素系ガスを放電解離させてなるプラズマを用いて前記処理チャンバ内の気相残留塩素を除去し、しかる後に前記処理チャンバ内の固相残留塩素を除去することを特徴とするプラズマ装置のクリーニング方法。