成膜方法および装置、薄膜磁気記録媒体およびその製造方法および装置ならびに磁気記憶装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：有近紳志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-062071
公開番号（公開出願番号）：特開平5-266474
出願日： 1992年03月18日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】例えば400Mb/in2程度以上の高密度記録が可能な薄膜磁気記録媒体を提供する。【構成】真空中で基板S上に直接または下地層を介して磁性薄膜を形成する場合に、下地層および磁性薄膜の少なくとも一方を形成する際に、超音波振動子14により超音波振動を与える。その超音波振動により表面波振動子16を駆動し、基材または下地層に同心円型、ランダム型、干渉型等の各モードの表面波を生じさせる。

請求項（抜粋）：