特許
J-GLOBAL ID：200903084296904591
ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクを用いた収差測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-306465
公開番号（公開出願番号）：特開平10-148926
出願日： 1996年11月18日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン位相シフトマスクを用いて、微細なパタンをチップ全体で広い焦点深度をもって形成する。また、ハーフトーン位相シフトマスクを用いて投影レンズの球面収差を測定する。【解決手段】 透明部材あるいは半透明部材でハーフトーン位相シフトマスク11を形成する。これら両部材のうち少なくともいずれか一方の部材の厚みをマスク上の位置によって異ならせ、透明領域を透過する光と半透明領域を透過する光との位相差をマスク面上の位置によって異ならす。
請求項（抜粋）：
透明部材と半透明部材で構成され、露光光が透明部材のみを透過する透明領域及び露光光が透明部材と半透明部材を透過する半透明領域を形成しているハーフトーン位相シフトマスクにおいて、透明部材あるいは半透明部材の少なくともいずれか一方の部材の厚みがマスク上の位置によって異なり、透明領域を透過する光と半透明領域を透過する光との位相差がマスク面上の位置で異なることを特徴とするハーフトーン位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
