特許
J-GLOBAL ID：200903084315506136
ガス機器及びこれを利用したガス供給装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-270681
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122500
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 本発明はガス供給装置に関し、保守の容易化と省スペース化(小型化)を実現することを目的とする。【構成】 ガス流路を形成する貫通孔(46)を多数有する基板(41)と、ガス入口部(65a,75a,86a)とガス出口部(66a,76a,85a)とを共に取付面(63,73,83)に配された開閉弁(42)、質量流量制御装置(43)及び圧力制御弁(44)と、U字状の配管(45)とを有する。開閉弁、質量流量制御装置、圧力制御弁は、共にガス入口部、ガス出口部を貫通孔と連通させて、基板上面に取り付けてある。配管は、基板の底面に取り付けてあり、開閉弁と質量流量制御装置とを連通するよう構成する。
請求項（抜粋）：
ガス機器本体と、ガス入口部と、ガス出口部とを有するガス機器において、上記ガス機器本体(60,70,80)を、その下面側(63,73,83)に取付面を有する構成とすると共に、上記ガス入口部(65a,75a,86a)と上記ガス出口部(66a,76a,85a)とを、上記取付面に設けた構成としたことを特徴とするガス機器。
IPC (2件)：
前のページに戻る
