特許
J-GLOBAL ID：200903084320878475
露光方法及び半導体装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-024553
公開番号（公開出願番号）：特開2006-210856
出願日： 2005年01月31日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】フィルターを用いたつなぎ露光に置いて、光量分布の微視的な誤差を抑制すること。【解決手段】透過光量が略均一な透過領域と、透過領域を挟むように形成された遮蔽領域とを具備するフィルターと、繋ぎ露光用の原版と、基板が載置されるステージと、基板上での光量を所定幅変化させる光量変化手段とを具備する露光装置を用意する;原版と基板との光学的な位置関係が第1の状態で、第1の原版領域に形成されたパターンを第1の基板領域に転写する;第1の状態で第2の原版領域に形成されたパターンを第2の基板領域に転写する;原版と基板との光学的な位置関係が第2の状態で、第3の原版領域に形成されたパターンを第1の基板領域に前記所定幅重なる第3の基板領域に転写する;第2の状態で第4の原版領域に形成されたパターンを第2の基板領域に所定幅重なる第4の基板領域に転写する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
繋ぎ露光を行うための所定のパターンが形成された原版、前記原版に形成されたパターンが転写される基板、並びに
光源と、前記原版に形成されたパターンの転写領域を設定するために透過光量が略均一な透過領域の周囲に形成された遮蔽領域を具備するフィルターと、前記繋ぎ露光を行うために前記基板上での光量を所定幅変化させる光量変化手段と、前記原版が載置される原版ステージと、前記基板が載置される基板ステージとを具備する露光装置を用意する工程と、
前記原版と前記基板との光学的な位置関係が第1の状態、且つ前記フィルター及び光量変化手段と前記原版との光学的な位置関係が第1の位置関係で、前記原版の第1の原版領域に形成されたパターンを前記基板の第1の基板領域に転写する工程と、
前記原版と前記基板との光学的な位置関係が前記第1の状態、且つ前記フィルター及び光量変化手段と前記原版との光学的な位置関係が第2の位置関係で、前記原版の第2の原版領域に形成されたパターンを前記基板の第2の基板領域に転写する工程であって、前記第2の原版領域は第1の原版領域からずれている工程と、
前記原版と前記基板との光学的な位置関係が第2の状態、且つ前記フィルター及び光量変化手段と前記原版との光学的な位置関係が第3の位置関係で、前記原版の第3の原版領域に形成されたパターンを前記基板の第3の基板領域に転写する工程であって、前記第3の原版領域は前記第1の原版領域の少なくとも一部を含み、第3の基板領域は前記第1の基板領域に前記所定幅重なる工程と、
前記原版と前記基板との光学的な位置関係が前記第2の状態、且つ前記フィルター及び光量変化手段と前記原版との光学的な位置関係が第4の位置関係で、前記原版の第4の原版領域に形成されたパターンを前記基板の第4の基板領域に転写する工程であって、前記第4の原版領域は前記第3の原版領域からずれると共に前記第2の原版領域の少なくとも一部を含み、前記第4の基板領域は第2の基板領域に所定幅重なる工程と
を含むことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 514A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502C
5F046AA11
, 5F046AA28
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB05
, 5F046CB08
, 5F046CB17
, 5F046DA02
