特許
J-GLOBAL ID:200903084351641821

異方性薄膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 池浦 敏明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-099895
公開番号(公開出願番号):特開平8-213233
出願日: 1995年03月30日
公開日(公表日): 1996年08月20日
要約:
【要約】【目的】 反磁性の異方性を有する粒子を磁場中で配向させて薄膜化することにより異方性のある薄膜を提供する。【構成】 反磁性野異方性を有する粒子が一定の秩序をもって配向している異方性薄膜。この薄膜は、磁場中におかれた前記反磁性の異方性を有する粒子をΔx・H2>1.5kT(H:磁束密度[G]k:Boltzmann定数1.381×10~16[erg・K~1]T:絶対温度[K])の条件下で溶媒蒸発法、ミセル電解法、静電気化学時ミセル薄膜形成法、伝着法、光重合性モノマー分散法などにより製造される。
請求項(抜粋):
反磁性の異方性を有する粒子が一定の秩序をもって配向されてなることを特徴とする異方性薄膜。
IPC (2件):
H01F 10/10 ,  H01F 41/14
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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