ポジ型レジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-151573
公開番号（公開出願番号）：特開2004-233953
出願日： 2003年05月28日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】レジストパターンを形成する際に、現像処理後の乾燥工程において、微細なレジストパターンが倒れるのを防止できるようにする。【解決手段】リソグラフィー工程において、アルカリ現像した後、基板上に存在する液体を臨界乾燥用液体で置換した後、該臨界乾燥用液体を臨界状態を経て乾燥させる工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるポジ型レジスト組成物であって、アルカリ可溶性単位の含有量が20モル%未満であり、かつ酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、(A)と(B)成分を溶解する有機溶剤(C)とを含み、前記(A)成分は、(a1)酸解離性溶解抑制基を含む構成単位、(a2)ラクトン単位を含む構成単位、及び(a3)アルコール性水酸基含有多環式基を含む構成単位を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

リソグラフィー工程において、アルカリ現像した後、基板上に存在する液体を臨界乾燥用液体で置換した後、該臨界乾燥用液体を臨界状態を経て乾燥させる工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるポジ型レジスト組成物であって、該ポジ型レジスト組成物は、アルカリ可溶性単位の含有量が20モル%未満であり、かつ酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、(A)と(B)成分を溶解する有機溶剤(C)とを含み、前記(A)成分は、(a1)酸解離性溶解抑制基を含む構成単位、(a2)ラクトン単位を含む構成単位、及び(a3)アルコール性水酸基含有多環式基を含む構成単位を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , G03F7/40 , H01L21/30 502R

Fターム (28件)：

2H025AA00 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB51 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA03 , 2H096EA04 , 2H096GA08 , 2H096GA60 , 2H096JA04 , 2H096LA30

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