特許

J-GLOBAL ID：200903084355863780

透明導電膜の製造方法

発明者： 曽山 信幸 ,  厚木 勉 ,  米澤 政 ,  内田 寛人 ,  小木 勝実
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-066029
公開番号（公開出願番号）：特開平7-282653
出願日： 1994年04月04日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【構成】 In又はSbとSnの加水分解性金属化合物及び活性線の照射により水を遊離する感光剤を含有する組成物を基板に塗布し、得られた塗膜を活性線で画像形成露光し、溶媒で現像して未露光部を除去した後、熱処理して露光部の膜を金属酸化物に変換させることにより、所定パターンのITO又はATO薄膜よりなる透明導電膜を形成する。【効果】 ゾル-ゲル法を利用して、レジストを使用せずにITO又はATO膜パターンを形成することができるので、製造工程の短縮化と高能率化が図れる。また、ゾル-ゲル法を利用することから、CVDやスパッタリングなどの気相法に比べて、膜形成が低コストで効率よく実施でき、大面積化も容易であり、組成のずれもほとんどない。

請求項（抜粋）：

金属酸化物系の透明導電膜を製造する方法において、少なくとも加水分解性金属化合物と、活性線の照射により水を遊離する感光剤とを含有する組成物を基板に塗布し、得られた塗膜を活性線で画像形成露光し、溶媒で現像して未露光部を除去した後、熱処理して露光部の膜を金属酸化物に変換させることにより、所定パターンの金属酸化物薄膜よりなる透明導薄膜を形成するようにしたことを特徴とする透明導電膜の製造方法。

IPC (7件)：

H01B 13/00 503 ,  C01B 13/14 ,  C01G 9/00 ,  C01G 19/00 ,  C01G 30/00 ,  C23C 18/12 ,  H01B 5/14