特許
J-GLOBAL ID:200903084360839006
荷電粒子線露光用ステンシルマスク
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
韮澤 弘 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-127203
公開番号(公開出願番号):特開2000-323380
出願日: 1999年05月07日
公開日(公表日): 2000年11月24日
要約:
【要約】【課題】 ステンシルマスク本体をホルダーに機械的に取り付けるようにして加熱による熱歪みの発生をなくして、荷電粒子線露光用ステンシルマスクのパターン不良を抑制し、かつ、接着剤塗布工程の不安定性を除く。【解決手段】 ステンシルマスク本体10の外形に対応する位置決めアパーチャ27を有する中間板22が支持体21の支持面上に固定され、その位置決めアパーチャ27内にマスク本体10が配置され、マスク本体10の外形より小さい押さえ形成用アパーチャ30を有する押さえ板23が支持体21に押圧固定されてなる荷電粒子線露光用ステンシルマスク。
請求項(抜粋):
荷電粒子線露光パターンに対応する貫通孔が形成された荷電粒子線露光用ステンシルマスクにおいて、マスク本体が支持体の支持面上に機械的な押圧機構によって圧着固定されていることを特徴とする荷電粒子線露光用ステンシルマスク。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 21/30 541 S
, G03F 1/16 B
Fターム (7件):
2H095BA08
, 2H095BB01
, 2H095BC17
, 2H095BC24
, 5F056AA06
, 5F056CD05
, 5F056EA04
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