特許
J-GLOBAL ID:200903084362337458

材料ガス供給管の加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-252621
公開番号(公開出願番号):特開平6-104187
出願日: 1992年09月22日
公開日(公表日): 1994年04月15日
要約:
【要約】【目的】この発明の目的は、材料ガスを反応炉へ導く供給管を均一に加熱することができ、反応炉に対する実効流量の低下を防止できるとともに、メンテナンスが容易な材料ガス供給管の加熱装置を提供することである。【構成】ベーパライザ10のタンク11と反応炉15とを結ぶパイプ14、およびこのパイプ14に設けられた制御用バルブ18は、恒温装置21の内部に設けられた恒温空間に配設されている。したがって、パイプ14の曲部やバルブの部分等においても、これらの部分を均一に加熱することができるため、パイプ14内における材料ガスの再液化を防止でき、タンク11から反応炉15までの到達時間の遅れや、実効流量の低下による材料ガスの供給不足を解決することができる。
請求項(抜粋):
材料ガスを気化させるための液体材料気化手段から材料ガスを反応炉に導く供給管と、この供給管から離れて設けられ、供給管周囲の雰囲気を介して供給管を加熱する加熱手段と、を具備することを特徴とした材料ガス供給管の加熱装置。
IPC (2件):
H01L 21/205 ,  C30B 25/14
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 気化ガスの供給方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-081217   出願人:富士通株式会社
  • 薄膜形成装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-245565   出願人:松下電器産業株式会社
  • 特開平2-190473
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